中国教育图书进出口有限公司

Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS

I S S N：1932-5150

出版社：SPIE-Intl Soc Optical Eng

2020 年

第 19 卷 4 期

第 19 卷 3 期

第 19 卷 2 期

第 19 卷 1 期

2019 年

第 18 卷 4 期

第 18 卷 3 期

第 18 卷 2 期

第 18 卷 1 期

2018 年

第 17 卷 4 期

第 17 卷 3 期

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第 2 卷 3 期

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2002 年

第 1 卷 3 期

第 1 卷 2 期

第 1 卷 1 期

[期刊论文]

Resolution enhancement with source-wavelength optimization according to illumination angle in optical lithography

DO I：10.1117/1.JMM.19.4.043201

作者：Manabu Hakko;Kanji Suzuki;

页码：043201 - 043201

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[期刊论文]

Particle and pattern discriminant freeze-cleaning method

DO I：10.1117/1.JMM.19.4.044401

作者：Kei Hattori;Daisuke Matsushima;Kensuke Demura;等

页码： -

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[期刊论文]

Rayleigh or Abbe? Origin and naming of the resolution formula of microlithography

DO I：10.1117/1.JMM.19.4.040501

作者：Anthony Yen;

页码：040501 - 040501

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[期刊论文]

High-power EUV lithography: spectral purity and imaging performance

DO I：10.1117/1.JMM.19.3.033801

作者：Mark van de Kerkhof;Fei Liu;Marieke Meeuwissen;等

页码：033801 - 033801

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[期刊论文]

Direct comparison of line edge roughness measurements by SEM and a metrological tilting-atomic force microscopy for reference metrology

DO I：10.1117/1.JMM.19.4.044001

页码：044001 - 044001

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[期刊论文]

JM3 is Gone, Long Live JM3!

DO I：10.1117/1.JMM.19.4.040101

作者：Harry Levinson;Hans Zappe;

页码：040101 - 040101

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[期刊论文]

Perspectives and tradeoffs of absorber materials for high NA EUV lithography

DO I：10.1117/1.JMM.19.4.041001

作者：Andreas Erdmann;Hazem Mesilhy;Peter Evanschitzky;等

页码：041001 - 041001

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[期刊论文]

Investigating extreme ultraviolet radiation chemistry with first-principles quantum chemistry calculations

DO I：10.1117/1.JMM.19.3.034601

作者：Jonathan H. Ma;Han Wang;David Prendergast;等

页码： -

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[期刊论文]

Understanding the influence of three-dimensional sidewall roughness on observed line-edge roughness in scanning electron microscopy images

DO I：10.1117/1.JMM.19.3.034002

作者：Luc van Kessel;Thomas Huisman;Cornelis W. Hagen;

页码： -

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[期刊论文]

Gradient-based source mask and polarization optimization with the hybrid Hopkins–Abbe model

DO I：10.1117/1.JMM.19.3.033201

作者：Ming Ding;Zhiyuan Niu;Fang Zhang;等

页码： -

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